氫氧化鈣石膏濕法脫硫工藝流程
來源:http://www.agump.com/news/374.html 發(fā)布時(shí)間:2022-03-04 點(diǎn)擊:1240
氫氧化鈣采用石膏濕法脫硫工藝經(jīng)濟(jì)益顯著,處理后的煙氣含塵量大大減少。其基本工藝流程如下:
鍋爐煙氣經(jīng)電除塵器除塵后,通過增壓風(fēng)機(jī)、GGH(可選)降溫后進(jìn)入吸收塔。在吸收塔內(nèi)煙氣向動(dòng)且被向下流動(dòng)的循環(huán)漿液以逆流方式洗滌。循環(huán)漿液則通過噴漿層內(nèi)設(shè)置的噴嘴噴射到吸收塔中,以便脫除SO2、SO3、HCL和HF,與此同時(shí)在“強(qiáng)制氧化工藝”的處理下反應(yīng)的副產(chǎn)物被導(dǎo)入的空氣氧化為石膏(CaSO4?2H2O),并消耗作為吸收劑的氫氧化鈣。循環(huán)漿液通過漿液循環(huán)泵向上輸送到噴淋層中,通過噴嘴進(jìn)行霧化,可使氣體和液體得以充分接觸。每個(gè)泵通常與其各自的噴淋層相連接,即通常采用單元制。
在吸收塔中,氫氧化鈣與二氧化硫反應(yīng)生成石膏,這部分石膏漿液通過石膏漿液泵排出,進(jìn)入石膏脫水系統(tǒng)。脫水系統(tǒng)主要包括石膏水力旋流器(作為脫水設(shè)備)、漿液分配器和真空皮帶脫水機(jī)。
經(jīng)過凈化處理的煙氣流經(jīng)兩除霧器除霧,在此處將清潔煙氣中所攜帶的漿液霧滴去除。同時(shí)按定程序不時(shí)地用工藝水對(duì)除霧器進(jìn)行沖洗。進(jìn)行除霧器沖洗有兩個(gè)目的,是防止除霧器堵塞,二是沖洗水同時(shí)作為補(bǔ)充水,穩(wěn)定吸收塔液位。
在吸收塔chu kou,煙氣般被冷卻到46~55℃左右,且為水蒸氣所飽和。通過煙氣再熱器將煙氣加熱到80℃以上,以提高煙氣的抬升高度和擴(kuò)散能力。
,潔凈的煙氣通過煙道進(jìn)入煙囪排向大氣。
以上便是氫氧化鈣經(jīng)過石膏濕法脫硫工藝的過程,成本低,能耗小,技術(shù)可靠。